対象:中学、高校
定員:6名 [満員]
フォトリソグラフィってなんだろう?
半導体LSI作製技術の基礎をクリーンルームで体験
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 教授 加藤剛志
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 助教 松永正広
工学研究科電子工学専攻 助教 大島大輝
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 特任助教 本田杏奈
スマートフォンなど身の回りの電子機器には必ず入っている半導体LSI。そんな半導体LSIはナノ〜マイクロスケールでの微細加工が必要不可欠です。この体験では、微細なパターンを作ることができるフォトリソグラフィ技術を使って、マイクロスケールで自分の名前を描いてみます。フォトリソグラフィって何?クリーンルームって?というところから始まり、実際に半導体プロセスが行われるクリーンルームに入室して、半導体LSI作製技術の基礎を体験してみませんか?
写真1枚目:マスクレス露光装置での実験の様子 / 写真2枚目:フォトリソグラフィにより作成したパターンの例(未来材料・システム研究所のロゴと名古屋大学のロゴ、髪の毛の太さはおおよそ60 µm)
対象:中学、高校
定員:6名 [満員]
フォトリソグラフィってなんだろう?
半導体LSI作製技術の基礎をクリーンルームで体験
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 教授 加藤剛志
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 助教 松永正広
工学研究科電子工学専攻 助教 大島大輝
未来材料・システム研究所 高度計測技術実践センター 特任助教 本田杏奈
スマートフォンなど身の回りの電子機器には必ず入っている半導体LSI。そんな半導体LSIはナノ〜マイクロスケールでの微細加工が必要不可欠です。この体験では、微細なパターンを作ることができるフォトリソグラフィ技術を使って、マイクロスケールで自分の名前を描いてみます。フォトリソグラフィって何?クリーンルームって?というところから始まり、実際に半導体プロセスが行われるクリーンルームに入室して、半導体LSI作製技術の基礎を体験してみませんか?
写真1枚目:マスクレス露光装置での実験の様子 / 写真2枚目:フォトリソグラフィにより作成したパターンの例(未来材料・システム研究所のロゴと名古屋大学のロゴ、髪の毛の太さはおおよそ60 µm)